本发明涉及半导体制造，具体涉及一种刻蚀设备和刻蚀方法。
背景技术：
1、在半导体器件的制造过程中，经常需要对膜层进行刻蚀，以部分或全部去除膜层。而在对一些膜层进行刻蚀的过程中，需要将刻蚀液浸入膜层的侧壁，使得侧壁参与刻蚀反应。但是，目前的刻蚀设备并不能使刻蚀溶液有效地浸入膜层的侧壁，导致侧壁的刻蚀效果不能达到预期。
技术实现思路
1、本发明公开一种刻蚀设备和刻蚀方法，以使半导体器件膜层侧壁的刻蚀效果达到预期。
2、第一方面，本发明公开了一种刻蚀设备，包括：刻蚀腔室以及设于所述刻蚀腔室内部的承载部件、喷洒部件和驱动部件；所述承载部件设于所述刻蚀腔室的底部，用于承载待刻蚀器件；所述喷洒部件设于所述刻蚀腔室的顶部，用于向所述待刻蚀器件喷洒刻蚀液，以使所述刻蚀液对所述待刻蚀器件上的膜层进行刻蚀；所述驱动部件与所述承载部件连接，用于驱动所述承载部件旋转，以调整所述待刻蚀器件的膜层表面与所述喷洒部件的相对位置关系。
3、可选地，所述驱动部件包括第一驱动部件和第二驱动部件；所述第一驱动部件和所述第二驱动部件分别与所述承载部件的相对两个表面连接；所述第一驱动部件用于带动所述承载部件向第一方向移动；所述第二驱动部件用于带动所述承载部件向第二方向移动；所述第二方向为与所述第一方向相反的方向。
4、可选地，所述驱动部件还包括第三驱动部件和第四驱动部件；所述第三驱动部件和所述第四驱动部件分别与所述承载部件的相对两个表面连接；所述第三驱动部件和所述第一驱动部件与所述承载部件同一表面的不同区域连接，所述第四驱动部件和所述第二驱动部件与所述承载部件同一表面的不同区域连接；所述第三驱动部件用于带动所述承载部件向所述第一方向旋转；所述第四驱动部件用于带动所述承载部件向所述第二方向旋转。
5、可选地，所述刻蚀设备还包括：设于所述刻蚀腔室外部的至少两个容器，所述容器用于容纳刻蚀液；不同的所述容器内的刻蚀液不同；所述至少两个容器均与所述喷洒部件连接，用于将不同容器内的刻蚀液分别传输至所述喷洒部件。
6、可选地，所述至少两个容器包括第一容器和第二容器，所述第一容器内的刻蚀液包括四甲基氢氧化铵；所述第二容器内的刻蚀液包括氢氟酸。
7、可选地，所述容器上设有浓度监控器件，所述浓度监控器件用于监控所述刻蚀液的浓度或所述刻蚀液内杂质的浓度。
8、可选地，所述容器通过管路以及设置在所述管路上的阀门与所述喷洒部件连通。
9、可选地，所述喷洒部件至少包括第一喷洒部件和第二喷洒部件，所述第一喷洒部件的喷洒均匀度高于所述第二喷洒部件。
10、可选地，所述第一喷洒部件包括狭缝喷嘴，所述第二喷洒部件包括喷雾喷嘴。
11、可选地，所述刻蚀设备还包括：设于所述刻蚀腔室内的喷气部件，所述喷气部件用于向所述待刻蚀器件喷洒气体，以对所述待刻蚀器件进行吹干。
12、第二方面，本发明公开了一种刻蚀方法，包括：将待刻蚀器件放置在承载部件上；控制喷洒部件向所述待刻蚀器件喷洒刻蚀液，以使所述刻蚀液对所述待刻蚀器件上的膜层进行刻蚀；驱动所述承载部件旋转，以调整所述待刻蚀器件的膜层表面与所述喷洒部件的相对位置关系。
13、可选地，还包括：根据所述待刻蚀器件待进行的刻蚀工艺，将所述刻蚀工艺所需的相应容器内的刻蚀液传输至所述刻蚀工艺所需的喷洒部件。
14、本发明公开的刻蚀设备和刻蚀方法，刻蚀设备包括刻蚀腔室以及设于刻蚀腔室内部的承载部件、喷洒部件和驱动部件，承载部件设于刻蚀腔室的底部，用于承载待刻蚀器件，喷洒部件设于刻蚀腔室的顶部，用于向待刻蚀器件喷洒刻蚀液，以使刻蚀液对待刻蚀器件上的膜层进行刻蚀，驱动部件与承载部件连接，用于驱动承载部件旋转，以调节待刻蚀器件的膜层表面与喷洒部件的相对位置关系。基于此，可以通过驱动承载部件旋转，不断地将待刻蚀器件的膜层侧面或侧壁调整为朝向喷洒部件的相对位置关系，从而不仅可以使得刻蚀液均匀地喷洒在待刻蚀器件膜层的上表面，而且可以使得刻蚀液均匀地喷洒在待刻蚀器件膜层的侧面或侧壁，进而可以使得刻蚀液更快更有效地浸入待刻蚀器件膜层的侧面或侧壁，进而可以在较短时间内使得待刻蚀器件膜层的刻蚀效果达到预期。
1.一种刻蚀设备，其特征在于，包括：刻蚀腔室以及设于所述刻蚀腔室内部的承载部件、喷洒部件和驱动部件；
2.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述驱动部件包括第一驱动部件和第二驱动部件；所述第一驱动部件和所述第二驱动部件分别与所述承载部件的相对两个表面连接；
3.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述驱动部件还包括第三驱动部件和第四驱动部件；所述第三驱动部件和所述第四驱动部件分别与所述承载部件的相对两个表面连接；
4.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀设备还包括：设于所述刻蚀腔室外部的至少两个容器，所述容器用于容纳刻蚀液；不同的所述容器内的刻蚀液不同；所述至少两个容器均与所述喷洒部件连接，用于将不同容器内的刻蚀液分别传输至所述喷洒部件；
5.根据权利要求4所述的刻蚀设备，其特征在于，所述容器上设有浓度监控器件，所述浓度监控器件用于监控所述刻蚀液的浓度或所述刻蚀液内杂质的浓度。
6.根据权利要求4所述的刻蚀设备，其特征在于，所述容器通过管路以及设置在所述管路上的阀门与所述喷洒部件连通。
7.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述喷洒部件至少包括第一喷洒部件和第二喷洒部件，所述第一喷洒部件的喷洒均匀度高于所述第二喷洒部件；
8.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀设备还包括：设于所述刻蚀腔室内的喷气部件，所述喷气部件用于向所述待刻蚀器件喷洒气体，以对所述待刻蚀器件进行吹干。
9.一种刻蚀方法，其特征在于，包括：
10.根据权利要求9所述的刻蚀方法，其特征在于，还包括：
